Ugrás a tartalomhoz

Szilán

Ellenőrzött
A Wikipédiából, a szabad enciklopédiából
Szilán

A szilán szerkezeti képlete

A szilán 3D molekulamodellje
IUPAC-névSzilán
Más nevekMonoszilán

Szilikán
Szilícium-hidrid
Szilícium-tetrahidrid

Kémiai azonosítók
CAS-szám7803-62-5
PubChem23953
ChemSpider22393
EINECS-szám232-263-4
ChEBI29389
RTECS számVV1400000
SMILES
[SiH4]
InChI
1/H4Si/h1H4
InChIKeyBLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N
Beilstein4173736
Gmelin273
UNII5J076063R1
UN-szám2203
Kémiai és fizikai tulajdonságok
Kémiai képletH4Si
Moláris tömeg32,12 g/mol
Megjelenésszíntelen gáz
Szagkellemetlen, szúrós[1]
Sűrűség1,342 g/dm³
Olvadáspont−185 °C
Forráspont−112 °C
Oldhatóság (vízben)Reakcióba lép lassan
Gőznyomás>1 atm (20 °C)[1]
Kristályszerkezet
Molekulaformatetraéder

r(Si-H) = 1,4798 angström

Dipólusmomentum0 D
Termokémia
Std. képződési
entalpia
ΔfHo298
34,31kJ/mol
Standard moláris
entrópia
So298
204,6 Jmol−1K−1
Veszélyek
Főbb veszélyekRendkívül gyúlékony, levegőn pirofóros
NFPA 704
4
2
3
 
Öngyulladási hőmérséklet18 °C
Robbanási határ1.37–100%
PELnincs[1]
Rokon vegyületek
Rokon vegyületekMetán

Stannán
Plumbán

Ha másként nem jelöljük, az adatok az anyag standardállapotára (100 kPa) és 25 °C-os hőmérsékletre vonatkoznak.

A szilán egy szervetlen vegyület, képlete SiH4. Színtelen, gyúlékony, ecetsavra emlékeztetően szúrós szagú gáz.[2] Gyakorlati jelentősége az elemi szilícium gyártásában van.

A szilán névből más vegyületeket is lehet származtatni (pl. triklórszilán, tetrametil-szilán, szilán-metakrilát stb.), akárcsak a metán esetén. A szilánok az alkánok szilíciumhidrogén-megfelelői.

A szilánt iparilag két lépésben állítják elő kohászati minőségű szilíciumból. Először az elporított szilíciumot hidrogén-kloriddal reagáltatják 300 °C-on, ekkor a hidrogéngáz mellett triklórszilán keletkezik az alábbi egyenlet szerint:

Eztán a triklórszilánt egy gyantával bevont edényben forralják katalizátort használva. A szilícium-tetraklorid az edényben marad, a szilángázt pedig felfogják.

A leggyakrabban alkalmazott katalizátor valamilyen fém-halogenid, leggyakrabban alumínium-klorid. A reakció során dupla ligandumcsere játszódik le, bár bizonyos szempontból diszproporciónak is tekinthető (noha mindhárom vegyületben IV a szilícium oxidációs száma), mert az oxidációs szám fogalmának használata kovalens molekuláknál némileg bizonytalan, még poláris molekulák esetén is. A szilíciumatomot lehet úgy tekinteni, mint amelynek a legnagyobb parciális pozitív töltése és formális oxidációs száma a szilícium-kloridban van, míg a szilánban a legkisebb a formális oxidációs száma, mivel a klór elektronegativitása jóval nagyobb, mint a hidrogéné.

Létezik egy alternatív előállítási módja az olyan nagy tisztaságú szilánnak, amely a félvezetőkben használt nagyon tiszta szilícium gyártására is alkalmas. A kiindulási anyag ismét kohászati minőségű szilícium, ezen kívül hidrogéngáz és szilícium-tetraklorid. A reakciósorozatban többszörös ligandumcserélés és desztilláció is szerepel, a melléktermékek újrahasznosíthatóak.

Az ilyen módon gyártott szilán hőbontásával nagy tisztaságú szilícium és egyúttal hidrogéngáz állítható elő.

További gyártási eljárás a szilícium-fluorid nátrium-hidriddel való redukciója, vagy a SiCl4 és lítium-alumínium-hidrid (LiAlH4) reakciója.[3] Egy másik, szilícium-dioxidból kiinduló folyamat magas nyomáson megy végbe alumíniummal és hidrogénnel; nátrium- és alumínium-klorid keverékében.

Laboratóriumi előállítása

[szerkesztés | forrásszöveg szerkesztése]

1857-ben két német kémikus, Heinrich Buff[4] és Friedrich Wöhler fedezte fel a sósav és alumínium-szilicid reakciójában képződő szilánt.[5]

Előadótermi demonstrációkhoz a szilán úgy állítható elő, hogy homok és magnéziumpor keverékét felhevítik, majd a keletkező magnézium-szilicidet tartalmazó porkeveréket 20%-os sósavba öntik. A Mg2Si reagál a savval, a fejlődő szilán pedig a levegővel érintkezve rögtön meggyullad és apró robbanások kíséretében elég. Ez egy heterogén sav-bázis reakcióként fogható fel, mivel a magnézium-szilicidben lévő Si4- anion antifluorit-szerkezetének köszönhetően Brønsted–Lowry-bázisként viselkedik, mely 4 proton befogadására képes.

Általánosságban egy M alkáliföldfém sztöchiometriailag háromféle szilicidet is létrehozhat: MII2Si, MIISi, és MIISi2. Mindhárom struktúra reakcióba lép Brønsted–Lowry-savakkal egyfajta szilícium-hidridet képezve a szilícium oxidációs számától függően. A lehetséges végtermék lehet SiH4 és/vagy nagyobb molekula az alkánokkal analóg SinH2n+2 általános képletű vegyületek közül, vagy lehet a kovasav egyik fajtája. Ennélfogva, a cikkcakkos Si2− anionláncokat tartalmazó MIISi vegyületből (melyben minden szilicidionon két, proton befogadására alkalmas nemkötő elektronpár van) egy (SiH2)x képletű hidrid-polimer keletkezhet.

Kis mennyiségű szilán előállítható nátriumamalgám és diklórszilán reakciójában, ekkor a szilán mellett némi polimeres szilícium-hidrid is keletkezik, mely sárga színt okoz közben.[6]

A szilán a metán analóg vegyülete. A szilíciumhoz képest a hidrogén elektronegativitása nagyobb, így az Si–H kötéspolaritása ellentétes a metánban lévő C–H kötésével. Ennek a fordított polaritásnak egyik következménye a nagyobb átmenetifémkomplex-képzésre való hajlam a szilánnál. Másik következménye a szilán pirofórossága — az a tulajdonsága, hogy levegőn külső gyújtás nélkül is spontán meggyullad.[7] A rendelkezésre álló (és gyakran ellentmondó) égési adatok alapján a szilán viszont igen stabilis, valamint ezekkel az adatokkal tanulmányozzák a nagyobb szilánok természetes előfordulását, ahogy a minimális szennyeződések (pl. nedvesség) által kiváltott nagy gyulladási hajlamát is; hogy vajon a tároló felületének katalitikus hatása okozza-e a vegyület pirofórosságát.[8][9] A szilán 420 °C felett szilíciumra és hidrogénre bomlik.

A Si–H kötés erőssége megközelítőleg 384 kJ/mol, mely körülbelül 20%-kal gyengébb a hidrogéngázban lévő H–H kötésénél. Következésképpen, a Si–H kötéseket tartalmazó vegyületek reakciókészsége jelentősen nagyobb, mint a H2-é. Ezt a kötéserősséget kisebb-nagyobb mértékben a többi szubsztituens is befolyásolja: A Si–H kötés erőssége a SiHF3, SiHCl3, és SiHMe3 vegyületekben 419, 382, és 398 kJ/mol.[10][11]

Szilángáztárolók Japánban.

Számos nagyipari felhasználása van a szilánoknak. Alkalmazzák a tapadórostos anyagok, például az üveggyapot és a szénrost készítésekor a kompozitanyagok stabilizálására. Használják még, mikor egy titánból készült implantátum felületére biológiailag semleges réteget akarnak felvinni. Egyéb felhasználásai közt van a víztaszítók gyártása, épület védelem terén a graffitik és szennyeződések lepergetése,[12] ezen kívül a félvezető és tömítőanyagok előállításánál, ahol polikristályos szilíciumréteget kell kialakítani. A félvezetőipar az 1990-es években körülbelül 300 tonna szilánt használt fel évente.[9] Elengedhetetlen az alacsony költségű fényelektromos modulok gyártásánál, amellett ez a lépés vezetett a szilán nagy mennyiségű kereskedelmi felhasználásához a hidrogénezett amorf szilícium üvegre, fémre, műanyagra vagy más felületre való felvitele céljából. A PECVD technológia nem túl gazdaságos, mivel a szilán 85%-a kárba vész. Ennek a pazarlásnak és a ökológiai lábnyomának csökkentésére folyamatosan dolgoznak ki újrahasznosítási módszereket.[13][14]

Szintén alkalmazzák a szuperszonikus égésű torlósugár-hajtóművekben az égés beindítására a sűrített levegő sugarában. Mivel szén-dioxidban is el tud égni, ez lehet az üzemanyaga a Marson működtetett motoroknak a jövőben.[15] Mivel azonban az reakcióban szilárd termékek is keletkeznek (szilícium-dioxid és szén), csak folyékony üzemanyagú rakétákban (folyékony szén-dioxiddal) vagy torlósugár-hajtóművekben használható.

A szilánokat és az egyéb Si—H kötést tartalmazó vegyületeket redukálószerként használják a szerves és fémorganikus kémiában.[16]

A szilán-metakrilátot a fogászatban is alkalmazzák, mint fogszínű töltőanyagot. A szilán-metakrilátok a kemény, szilikátbázisú kerámiatöltő anyagok és a szerves, gyanta alapú oligomer mátrixokat összekapcsoló szerek.

Biztonság és elővigyázatosság

[szerkesztés | forrásszöveg szerkesztése]

Már temérdek olyan ipari balesetről számoltak be, amelyet a kiszivárgó szilán levegőben történő elégése vagy robbanása váltott ki.[17][18][19]

Ha egy szivárgó szilánforrást elzárnak vagy gátolnak, az égés hőkibocsátása sokkal inkább koncentrálódik egy helyen, amely a reakciósebesség és égési sebesség megnövekedéséhez vezet; a gázfázisú detonáció pedig súlyos károkat okoz. A szilán önmagától kigyulladhat akár 54 °C alatt.[20]

Égésének veszélyes termékei

[szerkesztés | forrásszöveg szerkesztése]

A csekélyebb szilántartalmú keverékek elégetésére egy kétlépcsős folyamat az ajánlott, mely a szilán elhasználását és a hidrogén oxidálását is magában foglalja. A szilícium-dioxid lecsapódása némi plusz hővel támogatja a reakció mihamarabbi végbemenetelét.[21]

A szilán inert gázokkal (nitrogén, argon stb.) keveredve sokkal készségesebben gyullad meg a nyílt levegővel érintkezve a tiszta szilánnal összehasonlítva. Akár 1%-os szilántartalom mellett is robbanhat.[22]

Japánban az efféle balesetek elkerülésére az amorf szilíciummal működő napelemeket gyártó cégek hidrogénnel keverik a szilánt a stabilisabb fényelektromos cellák érdekében, mivel csökkenti a Staebler–Wronski-hatást.

A metánnal ellentétben a szilán meglehetősen toxikus: 4 órás kitettség esetén a halálos koncentrációja (LC50) a levegőben 0,96% (9600 ppm), patkányokon mérve. Továbbá, a szemmel érintkezve kovasav képződhet belőle, amely az irritációért felelős.[23]

A szilánnak munkahelyükön kitett dolgozók érdekében a NIOSH 5 ppm-re (7 mg/m³) korlátozta az ajánlott maximális koncentrációt átlagos, 8 órás műszakkal számolva.[24]

Ez a szócikk részben vagy egészben a Silane című angol Wikipédia-szócikk ezen változatának fordításán alapul. Az eredeti cikk szerkesztőit annak laptörténete sorolja fel. Ez a jelzés csupán a megfogalmazás eredetét és a szerzői jogokat jelzi, nem szolgál a cikkben szereplő információk forrásmegjelöléseként.

  1. 1 2 3 "CDC - NIOSH Pocket Guide to Chemical Hazards - Silicon tetrahydride". www.cdc.gov. Hozzáférés: 2026. május 25..
  2. CFC Startec properties of Silane Archiválva 2008. március 19-i dátummal a Wayback Machine-ben. C-f-c.com. Retrieved on 2013-03-06.
  3. Shriver and Atkins. Inorganic Chemistry (5th Edition). W. H. Freeman and Company, New York, 2010, p. 358.
  4. Qwika – Heinrich Buff Archiválva 2013. szeptember 21-i dátummal a Wayback Machine-ben. Wikipedia.qwika.com. Retrieved on 2013-03-06.
  5. Mellor, J. W. "A Comprehensive Treatise on Inorganic and Theoretical Chemistry," Vol VI, Longmans, Green and Co. (1947), p. 216.
  6. Mellor, J. W. "A Comprehensive Treatise on Inorganic and Theoretical Chemistry, Vol. VI" Longmans, Green and Co. (1947) pp. 970–971.
  7. Emeléus, H. J. (1935). "The oxidation of the silicon hydrides". Journal of the Chemical Society: 1182–1189. doi:10.1039/JR9350001182. {{cite journal}}: Unknown parameter |coauthors= ignored (|author= suggested) (súgó)
  8. Koda, S. (1992). "Kinetic Aspects of Oxidation and Combustion of Silane and Related Compounds". Progress in Energy and Combustion Science. 18 (6): 513–528. doi:10.1016/0360-1285(92)90037-2.
  9. 1 2 Timms, P. L. (1999). "The chemistry of volatile waste from silicon wafer processing". Journal of the Chemical Society – Dalton Transactions (6): 815–822. doi:10.1039/a806743k.
  10. M. A. Brook "Silicon in Organic, Organometallic, and Polymer Chemistry" 2000, J. Wiley, New York. ISBN 0-471-19658-4.
  11. "Archivált másolat". 2016. november 21. dátummal az eredeti címről archiválva. Hozzáférés: 2016. június 7..
  12. Graffiti protection systems Archiválva 2007. október 9-i dátummal a Wayback Machine-ben. Protectosil.com. Retrieved on 2013-03-06.
  13. Briend P, Alban B, Chevrel H, Jahan D. American Air, Liquide Inc. (2009) "Method for Recycling Silane (SiH4)". US20110011129, EP2252550A2.
  14. Kreiger, M.A.; Shonnard, D.R.; Pearce, J.M. (2013). "Life cycle analysis of silane recycling in amorphous silicon-based solar photovoltaic manufacturing". Resources, Conservation and Recycling. 70: 44. doi:10.1016/j.resconrec.2012.10.002.
  15. Zubrin, Robert (1996). The Case for Mars. NY: Touchstone. 203. o. ISBN 0-684-83550-9.
  16. Reductions of organic compounds using silanes. Organic-chemistry.org. Retrieved on 2013-03-06.
  17. Chen, J. R. (2002). "Characteristics of fire and explosion in semiconductor fabrication processes". Process Safety Progress. 21 (1): 19–25. doi:10.1002/prs.680210106.
  18. Chen, J. R.; Tsai, H. Y.; Chen, S. K.; Pan, H. R.; Hu, S. C.; Shen, C. C.; Kuan, C. M.; Lee, Y. C.; Wu, C. C. (2006). "Analysis of a silane explosion in a photovoltaic fabrication plant". Process Safety Progress. 25 (3): 237–244. doi:10.1002/prs.10136. {{cite journal}}: Unknown parameter |last-author-amp= ignored (|name-list-style= suggested) (súgó)
  19. Chang, Y. Y.; Peng, D. J.; Wu, H. C.; Tsaur, C. C.; Shen, C. C.; Tsai, H. Y.; Chen, J. R. (2007). "Revisiting of a silane explosion in a photovoltaic fabrication plant". Process Safety Progress. 26 (2): 155–158. doi:10.1002/prs.10194. {{cite journal}}: Unknown parameter |last-author-amp= ignored (|name-list-style= suggested) (súgó)
  20. "Silane MSDS" (PDF). Hozzáférés: 2016. június 7.. {{cite web}}: Unknown parameter |archívdátum= ignored (súgó); Unknown parameter |archívurl= ignored (súgó)
  21. V.I Babushok (1998). "Numerical Study of Low and High Temperature Silane Combustion". The Combustion Institute. 27th Symposium: 2431–2439.
  22. Kondo, S.; Tokuhashi, K.; Nagai, H.; Iwasaka, M.; Kaise, M. (1995). "Spontaneous Ignition Limits of Silane and Phosphine". Combustion and Flame. 101 (1–2): 170–174. doi:10.1016/0010-2180(94)00175-R. {{cite journal}}: Unknown parameter |last-author-amp= ignored (|name-list-style= suggested) (súgó)
  23. MSDS for silane Archiválva 2009. február 20-i dátummal a Wayback Machine-ben. vngas.com
  24. "Silicon tetrahydride". NIOSH Pocket Guide to Chemical Hazards. Centers for Disease Control and Prevention. 2011. április 4. Hozzáférés: 2013. november 18..